不过，不论如何，这些情况，都是因为他们的实际技术不能达到真正所谓的制程，而林晓现在兑换出来的这个5nm制程工艺，却是十分实际的5纳米制程，也就是晶体管的源极到漏极之间的距离为5nm，也就是栅极的宽度为5nm。
这才是最标准定义下的芯片制程。
这也就意味着，如果使用这个工艺来制造芯片，他们将制造出这个世界上最先进的芯片！
他们可以在单位面积下，塞下更多的晶体管，而且，这几乎是一种一劳永逸的工艺。
因为不论之后其他代工厂的生产工艺如何更新换代，都需要先赶上他们的这个5nm工艺，因为他们这个可是真正的5nm。
当然，为什么系统给出的这个5nm是实实在在的5nm，肯定也是和他们的X光刻机有关系，毕竟，根据林晓的设计，他们X光刻机的光源波长，最终是选定为3.56nm的X光，相比起极紫外光的13.5nm波长，在制备这种微细制程的芯片上，显然是他们这种更小波长的光源占据优势。
“不枉费我花了45真理点啊。”